SDNAND(Secure Digital NAND)作为集成存储器件,其对回流焊次数的限制源于内部结构、材料特性及焊接工艺的热应力影响。以下从技术原理出发,详细解析为何 SDNAND 不建议进行 2-3 次回流焊,以及多次过炉可能导致的后果:
封装类型的限制:SDNAND 多采用 LGA(球栅阵列)、WLCSP(晶圆级芯片规模封装)等高密度封装,内部芯片与焊球通过焊料(如 SnAgCu 合金)连接。封装材料(如环氧树脂)的耐温阈值通常为:
短期耐温:240℃~260℃(持续时间≤10 秒);
长期耐温:≤150℃(长期工作温度)。多次过炉(尤其是 2-3 次)会导致封装材料因热老化而变脆,失去对内部芯片的保护作用。
焊料与焊点的物理变化:回流焊时焊料经历 “熔融→凝固” 过程,每次过炉会使焊点内部的金属间化合物(IMC,如 Cu6Sn5)厚度增加。研究表明:
1 次回流后 IMC 厚度约 1~2μm;
3 次回流后 IMC 厚度可达 5μm 以上,导致焊点脆性增加、机械强度下降。
芯片与封装的热膨胀不匹配:SDNAND 内部硅芯片(热膨胀系数 CTE≈3ppm/℃)与 PCB(FR-4 材料 CTE≈18ppm/℃)的 CTE 差异显著,每次过炉的温度骤变(升温速率≥2℃/s)会产生剪切应力,导致:
芯片与封装基板之间的连接层(如 Underfill 胶)开裂;
LGA 焊球与焊盘之间产生微裂纹(尤其是焊球直径≤0.5mm 的小型封装)。
内部连线的可靠性风险:SDNAND 内部通过金线键合或倒装焊(Flip Chip)连接芯片与基板,多次热循环会导致:
金线键合处发生金属疲劳断裂;
倒装焊焊点(如凸点)因应力累积出现开裂。
闪存单元的热损伤:SDNAND 内部的 NAND 闪存单元对温度敏感,高温(>240℃)会导致:
浮栅晶体管阈值电压漂移,引起数据读写错误;
存储介质(二氧化硅层)老化,降低擦写寿命(如原本 10 万次擦写周期可能降至 1 万次以下)。
控制器芯片的可靠性下降:集成的控制器 IC 在多次高温下会出现:
晶体管阈值电压偏移,导致逻辑功能异常;
内部电路的金属布线(如铝线)电迁移加剧,引发开路或短路。
封装外观异常:
封装体表面出现裂纹、鼓包(尤其是塑封料与基板结合处);
LGA 焊球表面氧化发黑(多次高温导致焊料氧化)。
焊点失效:
焊球与 PCB 焊盘之间脱焊(X 射线检测可见空洞率≥30%);
焊球内部出现分层(截面分析可见 IMC 层断裂)。
通信异常:
SPI/SDIO 接口通信失败(如 CS 信号无法拉低、数据传输 CRC 错误);
设备无法被主机识别(控制器因热损伤导致初始化失败)。
存储功能失效:
读写数据时出现位翻转(Bit Flip);
块地址映射表(FTL)损坏,导致整颗芯片无法擦写。
热循环测试失效:经过 3 次回流焊的 SDNAND,在 - 40℃~85℃高低温循环测试中,失效概率比 1 次回流的器件高 5~10 倍(如焊点在 100 次循环后开裂)。
湿度敏感度下降:多次过炉会破坏封装的防潮层,导致器件对湿度更敏感(如 MSL 等级从 Level 3 降至 Level 2,存放时间缩短)。
JEDEC J-STD-020H 标准:规定表面贴装器件(SMD)的回流焊次数通常≤2 次,峰值温度≤260℃(持续时间≤10 秒),超过 2 次需进行额外可靠性验证。
典型 SDNAND 规格书要求:以 Microchip SDNAND 为例,其参数如下:
最大回流次数:2 次;
峰值温度:245℃(持续时间≤60 秒 @217℃以上);
警告:3 次回流将导致 warranty 失效,且可靠性无法保证。
调整焊接顺序:
采用 “一面回流焊 + 另一面波峰焊” 工艺(波峰焊温度≤230℃,对 SDNAND 影响较小)。
使用局部加热技术:
对 SDNAND 所在区域采用选择性回流焊(如激光加热),避免整板多次过炉。
选择耐温更高的封装:
若必须多次焊接,可选用陶瓷封装(如 LGA)的 SDNAND,其耐温性比塑封封装高 30℃~50℃。
SDNAND 对回流焊次数的限制本质上是由 “材料热疲劳” 与 “结构应力累积” 决定的。多次过炉不仅会直接导致焊点失效和芯片损伤,还会显著缩短器件的长期使用寿命。在生产中,需严格控制回流次数≤2 次,并通过优化焊接工艺、选择耐温器件来规避风险。
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