以下是关于SD NAND擦除时间的综合解析,结合技术特性、优化机制及实际应用场景:
擦除单元与超时计算
若擦除操作涉及部分AU,超时需增加 250ms;
若起始和结束块位于同一部分擦除AU内,则增加 500ms 。
N_erase
(AU数量)
T_erase
(擦除N_erase
个AU的标准时间)
T_offset
(时间偏移量,用于调整基准线)。
分配单元(AU):SD NAND擦除操作以AU为基础进行管理。擦除超时时间通过公式计算得出,需考虑以下参数:
部分擦除的额外延迟:
最小超时限制:计算结果若低于1秒,则强制设为1秒;高于1秒时按实际值执行。
擦除时间线性特性
擦除时间与AU数量近似成线性关系(图A典型特征)。制造商需确保实际擦除时间始终低于超时值,且斜率 ≤3秒/AU 。
大面积擦除的瓶颈:一次性擦除大量AU会导致累积误差(余量可达分钟级),建议分割为小区域在AU边界分次擦除,并实时通知用户进度。
NAND vs NOR擦除性能对比
特性 | NAND Flash | NOR Flash |
---|---|---|
擦除块大小 | 8–32 KB | 64–128 KB |
擦除时间 | ≤4 ms | ~5 s |
写入速度 | 更快 | 较慢 |
NAND的小擦除单元和高效电路设计是其高速擦除的关键。
3D NAND擦除技术优化
微脉冲序列(Micro-pulse):
将传统擦除脉冲(1.2–1.6 ms)拆分为短时微脉冲,在脉冲间隙处理其他请求(如读取/写入),显著提升系统响应性(QoS)。
位置依赖的擦除控制:
在3D堆叠结构中,根据存储单元距沟道端口的距离动态调整擦除周期的起始时间(T_s
)和持续时间(T_ep
)。距离越远,起始延迟越大,持续时间越长。
双侧擦除(Bilateral Erase):
先通过双侧充电(源极+漏极)快速擦除达标串,再切换至单侧擦除其余串,减少整体擦除损耗。
浅擦除处理的判断方法
若低写入量区块擦除时间 > 写满区块时间 → 存在内部写无效数据操作;
若擦除时间 ≤ 写满区块时间 → 直接擦除,无冗余操作。
通过对比不同写入量下的平均擦除时间,判断NAND是否在用户擦除命令后内部写入无效数据:
此方法帮助开发者避免重复无效操作,提升效率。
指令优化
使用 CMD23(Set Block Count) 替代CMD12终止多块操作,避免精确时序控制难题,尤其适用于UHS104卡。
若CMD23后发生CRC错误,需重试以确保块计数有效。
工程实践
超时设置:采用max(1s, T_erase × (N_erase) + T_offset + 部分擦除补偿)
公式。
大区块处理:将大擦除任务分割为多个AU对齐的子任务,分步执行并反馈进度,防止用户中断。
无效数据处理验证:通过擦除时间分析优化写入策略,减少冗余步骤。
SD NAND的擦除时间核心依赖AU管理机制和3D结构优化技术。微脉冲序列、位置感知擦除及双侧擦除等技术显著降低延迟;而浅擦除分析和指令优化则从系统层面提升效率。实际开发中需结合超时公式与分割策略,以平衡性能与用户体验。
下一篇:没有了!